如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱:
AMAYA天谷制作所常壓CVD設(shè)備半導體設(shè)備
產(chǎn)品型號:
AMAX800V
產(chǎn)品展商:
日本AMAYA天谷制作所
折扣價格:
0.00 元
關(guān)注指數(shù):57
產(chǎn)品文檔:
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AMAYA株式會社天谷制作所AMAX800V
常壓CVD裝置，準備了滿足顧客需求的產(chǎn)品陣容。同時，定做也對應(yīng)。
對應(yīng)于半導體制造用、太陽能電池制造用等各種用途。從少量生產(chǎn)到大量生產(chǎn)
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各種膜種
采用SiC托盤防止重金屬污染，從低溫（200℃）到中溫（500℃）區(qū)域可以廣泛成膜
AMAYA天谷制作所常壓CVD設(shè)備半導體設(shè)備
的詳細介紹
日本AMAYA株式會社天谷制作所
具有極端連續(xù)型的高生產(chǎn)率常壓CVD設(shè)備
AMAX800V
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8英寸 每小時 100 張的高吞吐量
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使用SiC托盤的重金屬污染對策和長期穩(wěn)定的工藝
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提高可維護性
特征
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通過改進輸送機構(gòu)實現(xiàn)了高吞吐量。
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SiH4，PH3，B2H6和O2從AMAX型分散頭分散后混合并表面反應(yīng)，優(yōu)化后在低溫和低壓下更有效地產(chǎn)生熱化學反應(yīng)。 可以獲得優(yōu)異的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。
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使用SiC托盤很難發(fā)生重金屬污染。 此外，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
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標配自動托盤更換功能，實現(xiàn)工人**，縮短維護時間。 此外，自動抬起頭部底座的機構(gòu)便于清潔。
性能
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均勻的薄膜厚度
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≦±3.0%
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支持的晶圓尺寸
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8寸
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氣體種類
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SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2
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薄膜沉積溫度
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350°C~450°C
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生產(chǎn)力
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100個/小時
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主要規(guī)格
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設(shè)備尺寸
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1460毫米（闊） x 3830毫米（深） x 2250毫米（高）
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加熱機構(gòu)
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電阻加熱
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裝載卸載
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機器人 CtoC 運輸
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分散頭（氣體噴嘴）
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AMAX頭（標準2頭，3頭可用）
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